SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask er en beroligende og fugtgivende ansigtsmaske
SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask hjælper med at styrke hudbarrieren og reducere irritation og tørhed. Masken indeholder 51% Centella Asiatica, som mindsker rødme og urenheder. Centella Asiatica balancerer hudens olie- og vandniveau, så huden bliver optimalt fugtet uden at være for fedtet. Masken er uden kunstig parfume, parabener, sulfater, udtørrende alkohol og silikone, hvilket gør den velegnet til sensitiv hud.Denne maske giver intens hydrering og beroligelse til huden. Brug den regelmæssigt for at få en sundere og mere balanceret hud. Den beskytter også mod miljøskader og holder huden sund og velplejet.
Egenskaber:
- 51% Centella Asiatica fra Madagaskar
- Reducerer rødme og irritation
- Balancerer hudens olie- og vandniveau
- Uden kunstig parfume og parabener
- Velegnet til sensitiv hud
Anvendelse:
Rens ansigtet grundigt. Påfør masken og lad den virke i 15-20 minutter. Fjern masken og massér overskydende serum ind i huden. Brug masken 2-3 gange om ugen.
Indhold:1 stk.
Ingredienser:
Centella Asiatica Extract (51%), Vand, Dipropylene glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Betaine, Butylene glycol, Pæonrodekstrakt, Polyglyceryl-10 Laurate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Blomsterekstrakt, Glyceryl Caprylate, Carbomer, Xanthan gum, Arginine, Ethylhexylglycerin, Sodium Hyaluronate, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Propanediol, Coptis Japonica Root Extract, Mentha Arvensis Leaf Oil, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyseret hyaluronsyre, Hyaluronic Acid, Raspberry Ketone, Disodium EDTA
Produktets ingrediensliste, næringsindhold og emballage kan blive ændret over tid. Vi opdaterer løbende hjemmesiden, men tjek altid emballagen på det købte produkt.
Indgår i kategorierne
- Personlig pleje
- Hudpleje
- Ansigtsmaske
- Beauty
- Luxury hudpleje
- Lux Ansigtsmasker
- Personlig pleje
- Koreansk Hudpleje - K-Beauty
- Koreansk Masker & Peeling
Kommentar